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低温恒温槽适用范围
点击次数:1315 发布时间:2010/10/26 0:00:00


 

低温恒温水槽 适用范围:

 

低温恒温水槽 对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。 

低温恒温水槽 对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。

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